OpLPara2
OPTOLONG L-Para Ha - OIII dual-keskenysávú szűrő, 10 nm sávszélesség (50,8mm)
OPTOLONG L-Para Ha–OIII Dual-Schmalbandfilter, 10 nm Bandbreite (50,8 mm)
Optolong L-Para Filter
Der L-Para ist ein brandneuer Dual-Schmalband-Lichtverschmutzungsfilter für Emissionsnebel. Der FWHM-Wert des L-Para beträgt 10 nm sowohl für OIII (500,7 nm) als auch für H-Alpha (656,3 nm). Die Transmission auf den Emissionslinien der Nebel übersteigt 85 % sowohl bei f/2 als auch bei weniger lichtstarken Systemen. Er filtert effektiv die Emissionslinien von Lichtverschmutzung durch Quecksilberdampflampen, Natriumdampflampen und LEDs heraus. Gleichzeitig bietet er einen hervorragenden Kontrast und eine haloarme Abbildung, wodurch detailreiche und lebendige Nebelaufnahmen ermöglicht werden.
Der L-Para ist sowohl für herkömmliche optische Systeme als auch für schnelle Systeme wie RASA- und Hyperstar-Systeme geeignet. Selbst bei schräg einfallendem Licht gewährleistet er weiterhin eine hohe Transmission und sorgt für eine klare und präzise Bildgebung.
Vorteile
Breite Kompatibilität: Dual-Schmalbandfilter, geeignet für alle Teleskopsysteme – sowohl für schnelle Optiken (f/2, f/2.8, f/3.2, f/4) als auch für Standard-Brennweiten.
Lichtverschmutzungsunterdrückung: Filtert effektiv Emissionslinien von Quecksilberlampen, Natriumlampen, LEDs und anderen Lichtquellen heraus; einsetzbar unter Himmel der Bortle-Skala 1–7.
Hohe Transmission: Bei Systemen ab f/2 liegt die Transmission der OIII- und Hα-Emissionslinien über 85 %, was eine höhere Abbildungseffizienz ermöglicht.
Hervorragender Kontrast: Hohe Durchlässigkeit der Nebellinien (OIII und Hα) in Kombination mit starker Unterdrückung unerwünschter Wellenlängen.
Haloarme Eigenschaften: Das Design wurde mehrfach optimiert und getestet, was die Reduzierung von Sternhalos deutlich verbessert und die Darstellung heller Sterne optimiert.
Technische Daten des L-Para Filters
Größe: 2,0" gefasst (M48 × 0,75)
Material: optisches Glas
Glasdicke: 1,85 mm
FWHM: OIII: 10 ± 0,5 nm, Hα: 10 ± 0,5 nm
Transmission: T > 85 % bei 500,7 nm und 656,3 nm
Blockbereich: 300–1000 nm
Blockung: OD durchschnittlich > 4
Oberflächenqualität: 60/40
